行业痛点

CMP 偏载致晶圆划伤、键合压力不均致失效、吸具压力不当致芯片破损——微米级工艺要求全接触面压力分布可视化。

行业痛点

半导体制造对压力均匀性的要求达到微米级:CMP 抛光头偏载造成晶圆表面划伤与碟陷,键合压力不均直接导致键合失败或晶圆破裂,贴装吸具压力过冲击碎芯片、压力不足则贴偏,引线键合与 ACF 邦定的接触压力更是直接决定电气连接的可靠性。这类缺陷排查极其困难——压力看不见,单点传感器无法反映全片分布。

艾井解决方案

艾井感压纸覆盖半导体前道与后道的关键压力工序:CMP 抛光头与晶圆接触压力检测、晶圆键合压力均匀性验证、芯片贴装吸具接触压力确认、晶圆背磨胶带层压检测、静电吸盘吸附压力评估、ACF 邦定凸点压力检测。按检测面尺寸裁剪胶片,一次显影即可获得全接触面的压力分布,为设备验收、日常点检与工艺优化提供量化数据。

典型应用场景

  • CMP 抛光设备:抛光头压力分布调校,关联色阶与晶圆损伤分析
  • 晶圆键合:键合机压力均匀性验证,防止键合不良与晶圆破裂
  • 芯片贴装:吸具接触压力与损伤控制
  • 晶圆背磨:胶带层压压力均匀性检测
  • 静电吸盘:ESC 与晶圆接触压力定期点检
  • ACF 邦定:凸点接触压力确认,保障电气连接可靠

推荐型号

5LW / 4LW(极低压吸附与贴附检测)、LW / LLW(键合与层压压力)、MW(合模类工序)。

推荐产品

5LW / 4LW(极低压贴附)、LW / LLW(键合层压)、MW(合模工序)